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简述半导体清洗设备是如何工作的

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简述半导体清洗设备是如何工作的

发布日期:2019-08-02 作者: 点击:


相信大家都会半导体清洗设备的清洗效果有了一定的认识。我们都知道半导体清洗是利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用,使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。下面为大家讲解一下半导体清洗设备是如何工作的。


半导体清洗设备


半导体清洗设备首先由半导体发生器发出的高频振荡信号,然后通过超声波换能器将该信号转换成高频机械振荡而传播到清洗溶剂中,从而使超声波能够在清洗溶液中迅速辐射,在超声波的影响下使液体产生流动而形成无数的微小气泡。这些气泡在超声波纵向传播的负压区形成、生长,而在正压区迅速闭合。这种过程被称之为“空化”效应,空化效应所产生的气泡闭合可形成超过 1000 个气压的瞬间高压,连续不断地产生瞬间高压就象一连串小“爆炸”源源不断地冲击物件表面,使物件的表面及缝隙中的污垢迅速剥落,从而达到物件表面彻底清洗的目的。

空化作用就是超声波以每秒数万次的压缩力和减压力交互性的高频变换方式向液体进行透射。在减压力作用时,液体中产生真空核群泡的现象,在压缩力作用时,真空核群泡受压力压碎时产生强大的冲击力,由此剥离被清洗物表面的污垢,从而达到精密洗净目的。在半导体清洗过程中,肉眼能看见的泡并不是真空核群泡,而是空气气泡,它对空化作用产生抑制作用降低清洗效率。只有液体中的空气气泡被完全脱走,空化作用的真空核群泡才能达到好的效果。

半导体清洗设备还有破坏细胞壁的功能,所以可以达到杀菌消毒的效果,而且因为空化作用可以乳化油污,去除农药残留。所以就变成我们今天所熟悉的超声波洗菜洗碗机了。

本文网址:http://www.ajvwqjn.com/news/453.html

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